Foto de grup del Comitè Institucional de Micronanofabs durant la reunió de hui amb el president del CSIC i el rector de la Universitat Politècnica de València al mig
El Comité Institucional de la Instalación Científica y Técnica Singular (ICTS) Distribuida
Micronanofabs se ha reunido hoy, 14 de octubre, en la Universitat Politècnica de
València para valorar el plan estratégico, la memoria, el plan de actividades y los
reglamentos de funcionamiento interno. Además, el Comité Institucional ha
proporcionado directrices y encomendado acciones al Comité de Coordinación de
Micronanofabs.
A la reunión han acudido: el presidente del CSIC, Emilio Lora-Tamayo; el coordinador
institucional del CSIC en la Comunidad Valenciana, José Pío Beltrán; el rector de la
Universitat Politècnica de València, Francisco Mora; el rector de la Universidad
Politécnica de Madrid, Guillermo Cisneros; el subdirector general de Grandes
Instalaciones Científico-Técnicas del Ministerio de Economía y Competividad, José
Ignacio Doncel; y el vicepresidente del Consell Valencià de la Innovació de la
Generalitat Valenciana, Andrés García Reche.
El término Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) se refiere a instalaciones,
recursos o servicios de titularidad pública para desarrollar investigación de vanguardia
y de máxima calidad, así como para la transmisión, intercambio y preservación del
conocimiento, la transferencia de tecnología y el fomento de la innovación. Son únicas
o excepcionales en su género, con un coste de inversión, mantenimiento y operación
muy elevado, y cuya importancia y carácter estratégico justifica su disponibilidad para
todo el colectivo de I+D+i.
Micronanofabs es una ICTS Distribuida integrada por la Sala Blanca Integrada de Micro
y Nano Fabricación del Centro Nacional de Microelectrónica del CSIC, localizada en
Barcelona; la Central de Tecnología del Instituto de Sistemas Opto-electrónicos de la Universidad Politécnica de Madrid; y la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación
del Centro de Tecnología Nanofotónica de la Universitat Politècnica de València. Las
tres infraestructuras están coordinadas para dar servicio a toda la comunidad científica
en el ámbito de la Microelectrónica, Optoelectrónica y Nanofotónica. En su conjunto,
ofrecen más de 2.000 metros cuadrados de salas blancas (clases 10-100-10.000) a la
comunidad científica, a la industria y a laboratorios asociados.
La Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica
de la Universitat Politècnica de València está situada en el Campus de Vera y es la
única ICTS Distribuida de la Comunidad Valenciana. Comenzó su actividad a finales del
año 2009, ofreciendo desde entonces servicios de nanofabricación. La instalación
ofrece servicios completos de prototipado rápido para grupos de investigación (básica
y aplicada) y empresas tecnológicas, incluyendo desde la consultoría en diseños y
soluciones completas basadas en fotónica integrada de silicio, hasta la fabricación
parcial (procesos específicos) o completa de dispositivos fotónicos pasivos y activos en
silicio. Además, se llevan a cabo los procesos de caracterización tanto física como
óptica de los dispositivos o estructuras fabricadas.

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